研发背景高管、职业成长路径与高技术企业成长性研究

作者：李慧聪,汪敏达,张庆芝

摘要：高管的研发经历对高技术企业创新能力和成长性具有重要影响,相关研究多基于高阶理论从塑造了高管风险偏好和价值取向的角度解释从业经历对企业行为和绩效的作用,对高管决策过程的分析并未考虑客观影响因素,高管研发经历对企业成长性的内在影响机制有待明确,不同职业成长路径下的研发背景高管,其行为和影响的差异尚未厘清。以2009年至2016年中国沪深两市A股上市高技术企业为样本,基于高阶理论和高管社会资本理论,采用面板数据回归的方法,检验研发背景高管对高技术企业成长性的影响机理;进一步分析由高校或科研院所跨界转型和一直在企业从事技术开发工作这两种职业成长路径在上述关系中的差异。研究结果表明,研发背景高管能够促进高技术企业成长,提升研发投入规模和研发投入效率是其施加上述影响的重要作用机制;进一步研究发现,出身高校或科研院所和一直在企业从事技术开发工作这两种职业成长路径的影响存在显著差异,出身高校或科研院所的高管对技术更为执着,甚至呈现出创新偏执,在企业从事技术开发工作的高管表现为创新偏好,更倾向于通过适度研发提升企业成长性。在理论层面,将高管背景拓展到研发背景,丰富了高阶理论的研究,并深化了对职业成长路径的认识,提供了研发背景高管对企业成长性影响的经验证据;刻画了研发背景高管通过研发活动施加影响的系统作用机制,加深了对研发投入的理解,提供了高管特征作用于资源配置进而影响经济后果的新经验证据。在管理实践层面,高技术企业在预算、考核和高管激励时,应建立研发投入效率与企业成长相挂钩的激励相容制度;在构建高管团队、优化团队结构的过程中,要注重整合不同类型高管的决策偏好,发挥高管团队合力;国有企业在治理实践中应继续发挥不同�

发文机构：北京工商大学商学院 东南大学经济管理学院 中国科学院大学公共政策与管理学院

关键词：研发背景高管职业成长路径高管特征研发投入高技术企业executive with R&D backgroundcareer pathmanagerial featuresR&D expenditurehigh-tech enterprises

分类号： F273.1[经济管理—企业管理][经济管理—国民经济]