上海硅酸盐 · 1995年第4期 262-266,共5页

几种石墨层间化合物溶出伏安行为的研究

作者:陈剑平,陈宗璋

摘要:本文首次将突出伏安法用于研究H2SO4+HNO3;H2SO4+KMnO4;H2SO4+HNO3+FeCl3+KMnO4等反应介质中制取石墨层间化合物时的溶出伏安行为,发现化学法合成的GIC与电化学法合成的GIC溶出伏安说线图在反应时间短时相似,随着反应时间增长溶出伏安谱线图则有较大的差异等实验现象。

关键词:石墨层间化合物溶出伏安伏安法

分类号: O657.14[理学—分析化学][理学—化学]TQ165[化学工程—高温制品工业]

来源期刊
上海硅酸盐

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