碳化硼薄膜制备技术研究进展

作者：涂溶,胡璇,章嵩,王传彬,沈强,张联盟

摘要：本文归纳了碳化硼薄膜的主要特性以及近年来在功能陶瓷、热电元件等方面的广泛应用。总结了目前物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)技术制备碳化硼薄膜的主要方法,包括磁控溅射法、离子束蒸镀法、经典化学气相沉积法(c-CVD)、等离子增强化学气相沉积法(PECVD、激光化学气相沉积法(LCVD)和热丝化学气相沉积法(HFCVD)等,讨论了各种沉积技术制备碳化硼薄膜工艺中各种实验参数对薄膜生长过程的影响,并对该领域今后的研究方向进行了展望。

发文机构：武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室

关键词：碳化硼薄膜物理气相沉积化学气相沉积Boron carbide filmsPhysical vapor depositionChemical vapor deposition

分类号： O484.5[理学—固体物理][理学—物理]