三氟化硼的制备及纯化技术研究进展

作者：缪光武,白占旗,曾群,张金柯,何双材,刘武灿

摘要：高纯三氟化硼是半导体离子注入用的重要掺杂离子源,在电子工业中有着广泛的应用。介绍了三氟化硼常用的制备方法及其优缺点,列举了三氟化硼的纯化方法。在实际生产过程中,企业可根据自身的情况选择合理的生产路线,结合三氟化硼粗品的杂质种类,选择合适的纯化方法,得到高纯度的三氟化硼产品。

发文机构：浙江省化工研究院有限公司

关键词：三氟化硼制备纯化boron trifluoridesynthesispurification

分类号： TQ2[化学工程—有机化工]