氮化硅滚子化学机械复合抛光工艺参数与表面粗糙度的关系

作者：谭晓媛

摘要：为优化氮化硅陶瓷滚子化学机械复合抛光技术工艺参数,得到高性能氮化硅陶瓷滚子。通过改变抛光机主轴转速及磁流变抛光液温度,探究各参数对氮化硅陶瓷滚子表面粗糙的影响,并获得各参数对表面粗糙度的影响曲线。总结对应影响规律,结果表明:随着主轴转速的增大,氮化硅陶瓷滚子表面粗糙度逐渐减小,且变化率逐渐减小;当其他条件不变时,磁流变抛光液温度对氮化硅陶瓷滚子表面粗糙度影响不大,保持在0.035μm左右。

发文机构：赣南师范大学化学化工学院

关键词：氮化硅陶瓷滚子化学机械复合抛光粗糙度Silicon Nitride ceramic rollerchemical machinerycompound polishingroughness

分类号： TQ174.75[化学工程—陶瓷工业]