高纯八甲基环四硅氧烷制备工艺研究进展

作者：段超,赵旭,郭树虎,万烨,常欣,孙强,赵宇,张晓伟

摘要：高纯八甲基环四硅氧烷广泛应用于光通讯行业,更是集成电路等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑材料之一。文章重点介绍了高纯八甲基环四硅氧烷(D4)的除杂提纯工艺,包括精馏法、络合精馏法、结晶-真空抽滤法、金属去除剂除杂法,分析了各个方法的优点及限制其广泛应用的制约因素,最后展望了高纯八甲基环四硅氧烷提纯除杂技术未来的发展方向。

发文机构：洛阳中硅高科技有限公司 中国恩菲工程技术有限公司

关键词：八甲基环四硅氧烷精馏络合精馏结晶真空抽滤金属去除剂octamethylcyclotetrasiloxanedistillationcomplex distillationcrystallization vacuum filtrationmetal remover

分类号： TQ2[化学工程—有机化工]